Американские исследователи добились существенных результатов в процессе объединения технологии самосбора молекул ДНК и современных технологий производства микросхем. По словам ученых, разработанная ими методика позволит существенно сократить затраты при миниатюризации транзисторов после 22-нм нормы.
Ученые из IBM совместно с коллегами из Калифорнийского технологического института (КТИ) объявили о совершении важного открытия, благодаря которому в будущем станет возможно производства микрочипов с еще более плотной интеграцией, работающих на более высоких скоростях.
Команде исследователей из КТИ во главе с Полом Ротмандом (Paul Rothmund) удалось добиться существенного прорыва в объединении процесса фотолитографии при производстве чипов и процесса самосбора токопроводящих частиц.
В настоящее время микросхемы выпускаются на базе 45-нм технологии. В конце 2009 г. планируется выпуск чипов на базе 32-нм техпроцесса. Со временем планируется переход на 22-нм норму. Однако уменьшение технологической нормы сопряжено с колоссальными затратами. Более того, при уменьшении величины транзисторов возникает
...
Читать дальше »
